微加工准分子激光预混气
工业技术的升级转型需要平衡日益增长的性能需求与加工速度及制造成本之间的矛盾。准分子激光的诞生，以其高光子能量所称著，在对突破材料限制需求越来越迫切的时代，准分子激光器再次站在了尖端工业激光解决方案的最前沿。作为当今最有效、最可靠的脉冲紫外激光技术的代表，准分子激光器有效地推进了诸如半导体、AMOLED平板显示、薄膜、硅底板加工、有机金属沉淀、高温超导、刻蚀、材料研究、汽车制造、生物医疗、光纤、钻石打标设备及可替代能源等多种成长型工业中的技术革新。准分子激光气体是用于准分子激光设备中的激光发生器的关键气体
PUREGAS准分子激光预混气的优点：
采用最高级别纯度的原料气体 采用自动化气体预混系统精确配制，有效降低人为因素影响 包装钢瓶采用特有的的钝化技术，有效保证微量活性气体的比例.保证可靠的稳定性 提供专业的一体化服务，包括激光设备的维修服务！
常见的准分子激光气体和波长相关：
可用波长 | 193 nm | ArF | 248 nm | KrF | 308 nm | XeCl | 450nm~520nm | XeF |
具体的配比和包装物和准分子激光设备的品牌和型号相关：
品 牌 | 机 型 | 波 长 | 准分子激光气体 | ATL | ATL ARF-1 | 193 nm | F2,Ar,Xe,Ne | ATL KRF-1 | 248 nm | F2,Kr,Xe,Ne | TUI | CTFTS-ARFV 2.2 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | CTFTS-KRFV 2.1 | 248 nm | F2,Kr,He,Ne | CTFTS-KRFV 2.2 | 248 nm | F2,Kr,He,Xe,Ne | CTMD-ARFV 2.0 | 193 nm | F2,Ar,He,O2,Ne | CTMD-XECLV 2.1 | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne | CTMN-ARFV 2.0 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | CTMN-ARFV 2.1 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | CTMN-KRFV 1.0 | 248 nm | F2,Kr,He,Ne | CTMN-KRFV 2.0 | 248 nm | F2,Kr,He,Ne | CTMN-XECLV 2.0 | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne | CTMN-XECLV 5.0 | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne | CTMN-XEFV 1.1 | 450nm~520nm | F2,Xe,He,Ne | CTMN-XEFV 1.2 | 450nm~520nm | F2,Xe,He,Ne | GAM Laser | EX5 ArF | 193 nm | F2,Ar,He,O2,Ne | EX5 KrF | 248 nm | F2,Kr,He,Ne | EX5 XeCl | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne | EX10 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | EX50 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | EX100 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | Photomedex | XeCl | 308 nm | HCl,Xe,Ne | Photoscribe | ArF | 193 nm | F2,Ar,Ne | KrF | 248 nm | F2,Kr,Ne | PotomacPhotonics | ArF | 193 nm | F2,Ar,Ne | KrF | 248 nm | F2,Kr,Ne | Spectranetics | XeCl | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne |
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